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ERM-EG001 硅中注入的锑(Sb原子的面密度、同位素数量比)

发布时间: 2023-10-25  点击次数: 258次

ERM-EG001 硅中注入的锑(Sb原子的面密度、同位素数量比)

        该样品是一个10毫米×10毫米的硅片,具有热生长的表面氧化物层和注入能量为400keV的Sb离子。

品牌:IRMM标准品/ERM标准物质

CRM code(货号):ERM-EG001

Description:ANTIMONY IMPLANTED IN SILICON (areal density of Sb atoms, isotope amount ratio)

描述:硅中注入的锑(Sb原子的面密度、同位素数量比)

Net mass(产品规格):1.5g

ERM-EG001.jpg

ERM-EG001 硅中注入的锑(Sb原子的面密度、同位素数量比)

       使用说明:

       Sb原子的面密度的认证值适用于尺寸小于0.15 mm2的芯片表面部分。如果使用较小的尺寸进行分析,则必须分析足够数量的不同位置,以确保具有代表性的采样。CRM的植入侧是抛光的、反射的一侧。参考材料不得加热至150°C以上。

       储存方法:材料应在干燥清洁的环境中储存在环境条件下。欧盟委员会不对材料在客户场所储存期间发生的变化负责,尤其是打开的样品。